UV光催化氧化階段

工作原理：

本產(chǎn)品利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而生成臭氧；

UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧)，臭氧與呈游離狀態(tài)污染物質(zhì)原子聚合，生成新的、無害或低害物質(zhì)，如CO2、H2O等。同時在污染體系中投加一定量的光敏半導體材料，結(jié)合一定量的光輻射，使光敏半導體在光的照射下激發(fā)產(chǎn)生電子-空穴對，吸附在半導體上的溶解氧、水分子等與電子-空穴作用，產(chǎn)生·HO等氧化性極強的自由基，再通過與污染物之間的羥基加和、取代、電子轉(zhuǎn)移等式污染物全部或接近全部氧化。

作用過程：

刺激性氣味氣體利用排風設備輸入到UV光解凈化設備后，凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同裂解、氧化反應，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。

產(chǎn)品特點：

本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體物質(zhì)分子鍵，裂解刺激性臭味氣體物質(zhì)的分子鍵，在半導體催化劑的作用下，使呈游離狀態(tài)的污染物原子與臭氧氧化聚合成小分子無害或低害物質(zhì)，如CO2、H2O等。利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸(DNA)，再通過臭氧，在半導體催化劑的作用下，進行催化氧化反應，徹底達到脫臭及殺滅細菌的目的。

UV+活性炭一體機

活性炭吸附階段

活性炭吸附裝置處理有機廢氣的原理是在一定的溫度和壓力下，當活性炭與有機廢氣接觸時，有機廢氣吸附于活性炭的細孔中。氣、固相開始接觸時，對有機廢氣中的甲苯、二甲苯、苯乙烯及丙酮等有機物的吸附是主要過程，在活性炭的眾多微孔中分為大中小三種孔，只有微小孔是吸附的主力軍，活性炭具有微晶結(jié)構(gòu)，微晶排列完全不規(guī)則，晶體中有微孔（半徑小于20〔埃〕＝10-10米）、過渡孔（半徑20～1000）、大孔（半徑1000～100000），使它具有很大的內(nèi)表面，比表面積為500～1700米2／克。這決定了活性炭具有良好的吸附性，可以吸附廢水和廢氣中的金屬離子、有害氣體、有機污染物、色素等。工業(yè)上應用活性炭還要求機械強度大、耐磨性能好，風阻小。它的結(jié)構(gòu)力求穩(wěn)定，吸附所需能量小，以有利于再生。活性炭用于油脂、飲料、食品、飲用水的脫色、脫味，氣體分離、溶劑回收和空氣調(diào)節(jié)，用作催化劑載體和防毒面的具的吸附劑。隨著時間的延長，活性炭細孔中吸附質(zhì)濃度的不斷增大，吸附速度會不斷減慢，直到活性炭達到飽和狀態(tài)。此時，吸附速度和解吸速度達到動態(tài)平衡，氣、固相之間的傳遞相等。活性炭在這時需要進行解吸脫附再生。

產(chǎn)品性能：

高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高，脫臭效果大大超過 1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）。

適應性強：可適應高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。

運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設備能耗低，設備風阻低，可節(jié)約大量排風動力能耗。

無需溫濕度處理：惡臭氣體無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等，設備工作環(huán)境溫度在攝氏-30°－95°之間，濕度在40%－98%之間均可正常工作。

設備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件。

優(yōu)質(zhì)進口材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，使用壽命長。

環(huán)保高科技產(chǎn)品：采用國際上技術(shù)理念，通過專家及我公司工程技術(shù)人員長期反復的試驗，開發(fā)研制出的，具有完全自主知識產(chǎn)權(quán)的高科技環(huán)保凈化產(chǎn)品，可徹底分解惡臭氣體中有毒有害物質(zhì)，并能達到 的脫臭效果，經(jīng)分解后的惡臭氣體，可完全達到無害化排放，絕不產(chǎn)生二次污染，同時達到高效消毒殺菌的作用。