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噴涂硅鋁靶材Spray SiAl Target

產品說明Product description

以等離子體為熱源,在大氣環境下通過一定的氣氛保護裝置,將Si+Al粉末加熱到熔融或半熔融狀態并高速沖擊背管表面形成致密涂層,從而制備出高純度、低氧含量、高致密度SiAl靶材。
With plasma as the heat source, high purity, low oxygen content, high density SiAl targets are produced by using Si and Al powders. Thestarting Si and Alpowders are heated to molten or semi-molten state with the protection of certain atmosphere and sprayed on the surface of backing tube at high speeds to form dense coatings.

項目Item

參數Specifications

檢測手段

Testing method

純度Purity

≥99.9%

Al含量Al Content

8-10%

密度Density

≥2.2 g/cm3

雜質含量Impurities

Fe:≤350 ppm

Ca:≤50 ppm

Cu:≤50 ppm

Mg: ≤20 ppm

Ni:≤20 ppm

O:≤6000 ppm

N:≤500 ppm

雜質總和(O、N除外):≤1000 ppm

Total impurity (excluding O, N)

ICP

氧氮分析儀

Oxygen and nitrogen analyzer

電阻率Electrical resistivity

≤50 mΩ?cm

四探針電阻率儀

Four-probe resistivity meter

背管材質Backing tube

-選用304/316L不銹鋼(無磁)

304/316L stainless steel (non-magnetic)

靶材尺寸Dimension

-按照圖紙要求加工

According to customized drawings

應用領域Applications

-用于制作SiO2膜、Si3N4膜,主要用于光學玻璃AR膜,LOW-E鍍膜玻璃,半導體電子器件,TFT-LCD,平面顯示,觸摸屏玻璃。

For deposition of SiO2and Si3N4films, which are used for AR films of optical glasses, LOW-E glasses, electronic devices, TFT-LCD, flat panel screens, touch screen glasses.


詳情:

規格參數

  • 行業分類:

    化工/陶瓷

  • 產品類別:

  • 品  牌:

    拓吉泰

  • 規格型號:

    旋轉靶/平面靶

  • 庫  存:

    10000

  • 生 產 商:

    安徽拓吉泰新型陶瓷科技有限公司

  • 產  地:

    中國安徽省合肥市

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