安徽拓吉泰新型陶瓷科技有限公司
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噴涂硅靶材Spray Si Target
產品說明Product description
以等離子體為熱源，在真空環境，或負壓氮氣或氬氣保護環境下將Si粉末加熱到熔融或半熔融狀態并高速沖擊背管表面形成致密涂層，從而制備出高純度、低氧含量、高致密度Si靶材。
With plasma as the heat source, high purity, low oxygen content, high density Si targets are produced from Si powder. The Si powder is heated to molten or semi-molten state in vacuum or at a negative pressure of nitrogen (N2) or argon (Ar) and deposited on the surface of backing tube at high speed to form dense coatings.
產品特點Products feature
項目Item | 參數Specifications | 檢測手段Testing method |
純度Purity（Si+B） | ≥99.99% | |
密度Density | ≥2.2 g/cm3 | 阿基米德密度儀 Archimedes densimeter |
雜質含量Inclusions | Fe +Al+Ca:≤50 ppm B: ≤100 ppm O:≤2000 ppm N:≤500 ppm 雜質總和(O、N、B除外):≤100 ppm Total impurity (excluding O, N, B ): ≤100 ppm | ICP |
電阻率 Electrical resistivity | ≤10Ω·cm | 四探針電阻率儀 Four probe resistivity meter |
背管材質Backing tube
-選用304/316L不銹鋼（無磁）。
靶材尺寸Dimension
-按照圖紙要求加工
According to customized drawings.
應用領域Applications
-用于制作SiO2/Si3N4膜，主要用于光學玻璃，觸摸屏之AR膜系，Low-E鍍膜玻璃，半導體電子，平面顯示，觸摸屏。
For deposition of SiO2/Si3N4films, for optical glasses, AR films of touch panel screens, Low-E glasses, semiconductor devices and flat panel screens.
規格參數
行業分類：
化工/陶瓷
產品類別：
品 牌：
拓吉泰
規格型號：
旋轉靶/平面靶
庫 存：
10000
生 產 商：
安徽拓吉泰新型陶瓷科技有限公司
產 地：
中國安徽省合肥市
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