產品名稱：射頻濾波器拋光液/半導體拋光液/CMP化學機械拋光液

產品簡介：射頻濾波器拋光液適用于集成電路當中的銅互連工藝制程中銅的去除和平坦化。

具有高的銅去除速率，碟型凹陷可調，低缺陷等特性。可應用于邏輯芯片以及3D NAND和DRAM芯片等量產使用。清除集成電路中銅拋光后表面的拋光顆粒和化學物殘留，以防銅表面腐蝕，降低表面缺陷。

適用范圍：

單晶硅、多晶硅的研磨拋光，存儲器制程和背照式傳感器(BSI)制程等。可定制選擇穩定的選擇比，去除速率，對氧化物/氮化物的選擇比。硅精拋液系列具有低缺陷的優點。BSI拋光液系列具有理想的硅和二氧化硅去除速率和選擇比。涵蓋TSV銅/阻擋層Slurry，TSV晶背銅/介質層拋Slurry、TSV晶背硅Slurry、TSV晶背硅/銅Slurry等。具有高去除速率、選擇比可調等優點。以及集成電路制造工藝中淺槽隔離的拋光等等。

吉致電子射頻濾波器拋光液使用方法：

1.可根據拋光操作條件用去離子水進行5-20倍稀釋。

2.稀釋后，粗拋時調節PH11左右，精拋時調節PH9.5左右。pH調節可以用10%的鹽酸、醋酸、檸檬酸、KOH或氨水在充分攪拌下慢慢加入。

3.循環拋光可以用原液。

吉致電子射頻濾波器拋光液儲存方法：

1.貯存時應避免曝曬，貯存溫度為5-35℃

2.低于0℃以上儲存，防止結冰，在無度以下因產生不可再分散結塊而失效。

3.避免敞口長期與空氣接觸。

吉致電子射頻濾波器拋光液價格：

吉致電子的射頻濾波器拋光液生產技術是引進國外生產技術和設備，特殊化學配方制備而成。吉致電子拋光液品質可以媲美進口同類產品。

本土化生產使吉致電子CMP拋光液產品交貨周期快，品質好，拋光液價格親民。

無錫吉致電子25年研發生產——射頻濾波器拋光液 /半導體拋光液 /CMP拋光液//CMP化學機械拋光液/射頻濾波器Slurry/射頻濾波器CMP化學機械拋光液Slurry/射頻濾波器CMP集成電路拋光液/射頻濾波器拋光液拋光漿料Slurry

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