產品名稱：氧化層拋光液/Oxide氧化物CMP研磨液/Oxide slurry

磨料類型：半導體cmp拋光液slurry

磨料粒徑：納米級SiO2

產品特點：納米級SiO₂磨料，粒徑均一穩定，去除速率穩定，金屬離子含量低，通過CMP工藝可有效去除表面氧化層，達到理想平坦度。

吉致電子Oxide Slurry與國內外同類產品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特點。

吉致電子氧化層拋光液/OxideSlurry拋光液儲存方法：

通風，陰涼，干燥的庫房，本品需在5-35℃儲存，防止陽光直射及凍結，零度以下因產生不可再分散結塊而失效。

吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價格：

吉致電子的CMP金屬拋光液生產技術是引進國外生產技術和設備，特殊化學配方制備而成。吉致電子拋光液品質可以媲美進口同類產品。

本土化生產使得吉致電子CMP拋光液產品交貨周期快，品質好，拋光液價格親民。

吉致電子CMP拋光耗材適用范圍

吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝，為不銹鋼、銅、鋁、陶瓷、導光板、五金產品、藍寶石、光學玻璃等各類拋光加工服務。為您提供可靠拋光解決方案！

吉致電子研發團隊--15年經驗CMP拋光液配方工程師，為您攻克拋光難題！

無錫吉致電子25年研發生產——氧化層拋光液 /Oxide slurry/CMP拋光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化學機械拋光液/半導體CMP拋光液/氧化層lapping研磨拋光液/氧化層slurry/氧化層拋光液拋光漿料/氧化層集成電路拋光液/氧化層CMP化學機械拋光液slurry/氧化層拋光液slurry

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