光學工業用純水設備光學鏡片清洗用超純水設備，光學鏡片在制作過程中表面會粘付一些溶劑、藥水等需要進行清洗。采用反滲透+EDI的配置，保證了設備的出水質量，滿足了清洗用水需求，雅云公司超純水設備的詳細介紹。一般采用二級反滲透設備產水進入EDI超純水系統，主要部分流入樹脂/膜內部，而另一部分沿膜板外側流動，以洗去透出膜外的離子，樹脂截留水中的容存離子，被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運動，陽離子向負極方向運動，陽離子透過陽離子膜，排出樹脂/膜之外，陰離子透過陰離子膜，排出樹脂/膜之外，濃縮了的離子從廢水流路中排出，無離子水從樹脂/膜內流出。超純水設備特點1、穩壓范圍寬，輸入電壓變動±20%仍可正常使用。2、效率高，產品具有功率因素校正電路，功率因數可達。3、輸出電壓電流連續可調，穩壓穩流自動切換。4、安全性能高，輸出端可任意短接不會造成機器損壞，且短接電流可由零至大值連續調整。5、采用高頻脈寬調制技術，具有穩定度強、精度高，體積小、重量輕、功耗低等特點。設備在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，真正做到了無人值守，具有更高的性價比和設備可靠性。原水中通常含有泥沙顆粒物、膠體、菌類、藻類及微生物等。

光學工業用純水設備RO污染癥狀是什么？反滲透系統發生污染后，其一般癥狀如下。系統進水與濃水間壓降增加。反滲透進水壓力發生變化。標準化后的產水流量變化。標準化后的鹽透過率發生變化。如何減少故障和降低反滲透清洗頻率？減少故障和降低反滲透清洗頻率，應該采取以下措施。在取得水質完全分析的基礎上設計反滲透系統。在進行設計前確定RO進水的SDI值。如果進水水質變化，需要做出相應的設計調整。必須保證足夠的預處理。選擇正確的膜元件。選擇比較保守的水通量。選擇合理的水回收率。設計足夠的橫向流速及濃水流速。對運行數據進行標準化。什么時候需要化學清洗？污染物的去除可通過化學清洗和物理沖洗來實現，有時也可通過改變運行條件來實現，作為一般的原則。發生下列情形應進行清洗：在正常壓力下如產品水流量降至正常值的85%~90%。為了維持正常的產品水流量，經溫度校正后的給水壓力增加10%~15%。產品水質降低10%~15%，鹽透過率增加10%~15%。使用壓力增加10%~15%。RO各段間的壓差增加明顯。