氟化氪光刻機廢水除氟的核心技術?在于利用特定的處理工藝去除廢水中的氟離子。這一技術主要應用于半導體制造領域，特別是在光刻機的清洗過程中產生的廢水中。通過有效的除氟處理，可以減少對環(huán)境的污染，同時符合環(huán)保要求?。

?氟化氪光刻機的工作原理?基于深紫外(DUV)光刻技術，使用248納米的光源波長，分辨率小于等于110納米，套刻精度精確至25納米以內。這種技術水平的提升反映了我國在精密制造與光學工程領域的深厚積累?34。

?除氟技術的具體應用?包括使用特定的化學或物理方法，如沉淀法、離子交換、電滲析等，來去除廢水中的氟離子。這些方法可以有效降低廢水中的氟含量，達到排放標準。此外，結合多重曝光技術，國產光刻機的技術已經(jīng)成熟，從DUV光刻機到EUV光刻機，標志著我國在高端光刻機領域取得了重大技術突破?12。

?環(huán)保意義及產業(yè)影響?方面，有效的廢水處理不僅符合環(huán)保要求，減少對環(huán)境的污染，同時也推動了半導體產業(yè)的可持續(xù)發(fā)展。隨著國產光刻機技術的不斷成熟與應用拓展，中國半導體產業(yè)在全球科技舞臺上的地位將進一步提升?。

Tulsimer? CH-87 UP 是在 Tulsimer? CH-87 的基礎上進行混合升級的一款專用除氟

樹 脂。能更好的適應高鹽、高氟環(huán)境下的選擇性除氟。且針對氨基磷酸型樹脂長時間

在高 鈣鎂環(huán)境下工作可能板結的問題，以及出水可能渾濁的問題進行了有效升級。

Tulsimer? CH-87 UP 的去除氟離子的能力可以達到 1ppm 以下的水平。它可以在寬泛的

PH 條件下工作，有極高的工作效率，并且很容易用氯化鋁進行再生。可以廣泛的應用于

光伏行業(yè)，氟化工行業(yè)等。

優(yōu)勢

1、處理精度，處理后廢水氟化物含量可達到1ppm以下，穩(wěn)定達標《地表水環(huán)境質量標準》GB3838-2002，表三標準；2、吸附量大，對于氟化物實際操作交換量能夠達到6-8g/l；3、選擇性除氟，樹脂可以在鹽環(huán)境運行，并且只吸附氟，不受硫根等陰離子的影響；4、專門開發(fā)用于污水除氟的特種離子交換樹脂，解決了活性氧化鋁、羥基磷灰石等吸附材料用于污水除氟時，使用過程中出現(xiàn)的吸附量小、再生時間長（至少8小時），再生后交換量衰減嚴重、運行成本、濾料體量大、占地面積大等難題；5、能對低濃度含氟廢水進行深度處理，濃縮比，解決低濃度廢水處理難題；6、模塊組件形式，自動化程度，操作簡單。