濕電子化學品，又稱超高純試劑或工藝化學品，是指主題成分純度大于99.99%，雜質離子和微粒數符合要求的化學試劑，是重要的晶圓制造材料之一。它作為“工業味精”處在上下產業鏈中間的微細加工制作過程中，主要功能是清洗和刻蝕，還可以用做光刻膠顯影和去除，同時也是作為一種關鍵性的損耗品參與到產業鏈的上下游。

電子級化學品應用于晶圓的清洗，光阻劑的移除中，若有雜質殘留在晶圓表面，會影響晶片的良導率，尤其是先進制樣（20nm以下）影響較大。電子濕化學品對潔凈水的電導率、離子含量、TOC、DO和顆粒物有著特別嚴格的要求，常用的超純水標準有國標GB/T 1146.1-2003和美標ASTM-D5127-13。另外，硼元素是半導體生產中的P型雜質，過量會使N型硅發生反轉，從而影響電子和空穴的濃度，因此硼元素的監控就顯得尤為重要。

在超凈高純化學試劑溶液中除硼，主要有以下兩種方法：

離子交換法

• 原理：利用特定的離子交換樹脂（如進口Tulsimer CH-99除硼樹脂）來吸附溶液中的硼。這種樹脂上的多羥基胺基團能夠與硼酸根離子形成高度穩定的絡合物，從而選擇性地吸附硼元素，即使在低濃度條件下也能展現出高效的吸附能力

• 應用：適用于低濃度硼的深度去除，具有高效、可再生等優點。在半導體制造、電子、制藥等高科技產業中，離子交換樹脂技術在超純水除硼領域得到了廣泛應用。

• 優勢：操作簡便，選擇性好，能夠將硼元素含量控制在極低水平。例如，CH-99除硼樹脂可以在寬pH條件下從有機溶劑中去除硼，處理級別在PPT，更具有良好的再生能力

反滲透法

• 原理：通過半透膜將水與溶解物分離，其中硼等離子無法透過膜而被截留

• 應用：廣泛應用于海水淡化及超純水制備。在超凈高純化學試劑溶液中，反滲透法同樣可以有效去除硼元素，同時去除多種雜質

• 優勢：處理效率高，可以同時去除多種雜質，對溶液的純度提升有顯著效果

在選擇除硼方法時，需要綜合考慮溶液中硼的初始濃度、處理規模、成本預算以及對最終產品純度的要求等因素。

Tulsimer CH-99 基本參數

• 主體結構：交聯聚苯乙烯

• 物理型式：含水球狀

• 官能團：胺聚羥基

• 目數（濕）：16 to 50

• 粒度（95% minm.）：0.3 - 1.2 mm

• 濕度：46±3%

• 反洗穩定密度：680 - 720 gm/lit

• 最大溫度穩定性：80℃（175℉）

• 總交換量：0.8 meq/ml

• 平衡硼量：5.7 meq/ml

• 離子型式：氯

性能特點

• 高選擇性：樹脂上的多羥基胺基團與硼酸根離子形成的絡合物高度穩定，能夠選擇性地吸附硼元素，即使在低濃度條件下也能展現出高效的吸附能力

• 高吸附容量：得益于其優化的樹脂結構和功能活性基團，CH-99樹脂能夠實現快速的吸附動力學過程，大大提升硼離子的處理速率和總體吸附容量

• 良好的穩定性和耐受性：該樹脂能在多種共存離子環境下保持穩定吸附效果，不易受到如Na2SO4和CaCl2等常見離子的影響，適應性強，且在廣泛應用中表現出優越的耐用性

• 經濟效益突出：由于其出色的吸附性能和再生能力，CH-99的應用可以顯著減少處理時間、樹脂用量以及再生過程中的能源消耗，從而降低運營成本，提高整體經濟效

•