四甲基氫氧化銨（Tetramethylammonium hydroxide） ，是一種有機化合物，分子式為(CH?)?NOH，分子量約91.15。通常以五水結晶化合物 的形式存在，呈現為無色潮解性針狀晶體，有一定的氨氣味，熔點62~71℃，沸點120℃。受熱易分解，在135~145℃時分解氣化，高純度的四甲基氫氧化銨在140℃時徹底分解，不留下任何殘留物。易溶于水和醇類有機溶劑，微溶于二甲基亞砜、二氯甲烷等有機溶劑。四甲基氫氧化銨具有強堿性，能和多種酸反應生成季銨鹽，在空氣中能迅速吸收二氧化碳形成碳酸鹽，還具有較強的甲基化能力，酯化反應速度快。 

工業上，一般采用四甲基銨鹽和氫氧化物作為原料制備四甲基氫氧化銨，常見的制備方法包括沉淀法、堿置換法、雙極膜電滲析法、電解法和離子膜電解法等， 并可采用電滲析法、離子交換樹脂法進行提純。四甲基氫氧化銨被廣泛用于半導體領域，主要用作印刷電路板的光刻顯影劑以及微電子芯片制造中的清洗劑。在工業領域和分析領域也有廣泛用途，如用作有機合成試劑、表面活性劑、催化劑、緩蝕劑及甲基化溶劑等。

 

• 電子級四甲基氫氧化銨的生產上一般會涉及到除硼，主要原因如下：

• 原料純度需求：生產電子級四甲基氫氧化銨的主要原料通常為四甲基碳酸氫銨等，在其制備過程中，原料中可能含有少量的硼雜質。例如，一些以三和碳酸二甲酯為原料合成四甲基碳酸氫銨的過程中，可能會引入微量的硼雜質。

• 電解過程雜質引入：在離子膜電解四甲基碳酸氫銨生產四甲基氫氧化銨的過程中，電解槽中的陽極液和陰極液循環系統可能會從電解槽材料、循環泵等設備中溶出微量的硼雜質。比如電解槽的材質如果含有硼元素，在電解過程中的長期使用和腐蝕作用下，硼雜質可能會溶解進入電解液中

• 產品純度要求：電子級四甲基氫氧化銨主要用于集成電路、液晶顯示器等電子行業，對純度要求極高，其產品中金屬離子含量需低于 1ppb，陰離子含量如碳酸根、硝酸根、氯離子等需低于 50ppb。硼雜質的存在會影響產品的性能和質量，導致在電子器件制造過程中出現缺陷，如在集成電路的光刻工藝中，硼雜質可能會干擾光刻膠的顯影效果，降低線路的精度和可靠性

• 離子交換樹脂法提純除硼

  離子交換樹脂對雜質離子有吸附和交換作用，能有效去除溶液中的硼雜質。通過選擇合適的離子交換樹脂，讓電解液或原料液通過樹脂柱，硼雜質被樹脂吸附，從而降低溶液中的硼含量。

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