鈦靶材是一種主要用于物理氣相沉積（PVD）技術(shù)的特殊材料，濺射鍍膜是指在真空條件下，利用獲得功能的粒子（如氬離子）轟擊靶材料表面，使靶材表面原子獲得足夠的能量而逃逸的過程稱為濺射。適合于平面鍍，例如：手機后殼，邊框，板材等。

鈦靶材以純鈦或鈦合金為主要成分，經(jīng)過精細制造而成。

高致密

熔煉設(shè)備技術(shù)性改造靶材致密度提升至95-99\%

高純度

特質(zhì)原材料雜質(zhì)含量低純度提升至99.99\%min

高精度

精密CNC機加中心公差士0.1mm表面粗糙度32Ra

鈦靶材是通過真空熔煉-熔模鑄造工藝制成的高純鈦或鈦合金板坯材料。它最顯著的特性是高純度和優(yōu)良的致密性。優(yōu)質(zhì)的鈦靶材的致密度可以達到99.5\%以上，且雜質(zhì)元素極低，如Fe、Si、O、N、H等元素含量均小于100ppm。

此外，鈦靶材還具有卓越的均勻性。在制備過程中，采用了三次熔煉和熱處理，有效改善了鈦靶材的組織均勻性。

鈦靶材主要用途：

激光濺射:

制備機械部件的表面硬化層,提高抗磨性。

制備生物醫(yī)用鈦合金材料的表面涂層,提高生物相容性。

電弧蒸發(fā):

制備太陽能電池的前電極透明導電膜。

制備復合材料的鈦基增強層。

三、鈦靶材的制備方法

冶金法

原理:采用真空電弧冶煉等技術(shù)熔煉高純鈦,然后經(jīng)過多次熔煉淬火、冷軋或鍛造等處理,制成鈦靶材。

工藝流程:選料→熔煉→淬火鍛造→機械加工→檢測

優(yōu)點:鈦靶材致密度高,純度高,均勻性好。

缺點:工藝復雜,能耗高,成本較高。

純度

高純度鈦靶材(如99.99\%)制備的膜層純度高,性能好。但靶材耗損快,增加運行成本。低純度鈦靶材雖具有成本優(yōu)勢,但沉積膜的雜質(zhì)含量高,影響膜層性能。

密度

致密度高的鈦靶材膜層致密性好,附著力強。但密度過高也會使膜內(nèi)應(yīng)力增大。適中密度的鈦靶材能獲得性能均衡的膜層。

表面粗糙度

光亮平整的鈦靶材可沉積表面質(zhì)量更好的膜層。但過度拋光也會導致粒子脫落問題。適度的表面粗糙度有助改善薄膜的附著力。