東莞市準納光電科技有限公司
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明細介紹:
真空室尺寸(直徑×高) φ900×1000極限真空度 3.0×10-4pa恢復真空時間 4.0×10-3pa 15min抽氣系統 擴散泵tk-500×2 羅茨泵zjp-300 機械泵2x-70特點大抽速真空系統加配深冷裝置,優秀的動態真空能力,滿足高效率生產的要求。裝載量更大,如需鍍制大尺寸平面產品,可配備平面夾具配備為該系列鍍膜機特殊設計的單電子槍,可使膜料面平整無坑、確保蒸發分布穩定。可配置在線反射率監控系統,產品一致性好。德國萊寶 型號:aps1104 空空室尺寸:1100*1200mm深冷裝置:溫度-135℃,抽速90000l/s,功率7.5kw真空性能:極限5×10-4pa,抽速:大氣到5×10-3pa小于10分鐘,升壓時間:1×10-3pa到1×10-1pa大于10分鐘轉動夾具:球面或平面,5-20轉/立式公轉夾具電子槍:單雙槍/電阻+磁控濺射離子源:矩形離子源晶體膜厚儀:sqc-310(全中文操作界面)寬光譜監控:400-1200nm多片反射。
用途:
多種材料,如金屬、半導體、絕緣子等.它具有設備簡單、易于控制、涂覆面積大、附著力強等優點.磁控濺射發展至今,除了上述一般濺射方法的優點外,還實現了高速、低溫、低損傷。以下是磁控濺射的六大應用.
各種功能薄膜:具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能.例如,在低溫下沉積氮化硅減反射膜以提高太陽能電池的光電轉換效率.
庫存明細:
品牌 | 型號 | 數量 |
光弛 | 1550 | 2臺 |
1300 | 2臺 | |
韓國韓一 | 2050 | 3臺 |
1600 | 2臺 | |
1200 | 1臺 | |
2700 | 1臺 | |
韓國聯合 | 2050/1300 | 2臺 |
韓一磁控濺射 | 1600 | 1臺 |
臺灣龍翩 | 1800 | 2臺 |
臺灣PEVA | 900 | 2臺 |
德國萊寶 | 1100/1510 | 2臺 |
日本多弧鍍膜機 | 1300 | 1臺 |
南光 | 1100/1300 | 4臺 |
規格參數
行業分類:
機械及行業設備/其他行業專用設備/鍍膜機
產品類別:
品 牌:
聚會
規格型號:
E850
庫 存:
2
生 產 商:
聚會
產 地:
中國廣東省東莞市
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