韓一1600真空鍍膜機明細介紹 1. ?設備類型與核心功能? ?型號分類?：主要包含?HVC-1600DA?和?1600MM?兩種常見型號，支持蒸發鍍膜、磁控濺射、PVD鍍膜等多種工藝?。?核心功能?： 適用于光學鏡片（玻璃/樹脂）、眼鏡片（AF/AR膜）、手機視窗等表面鍍膜?。 支持多層高反射膜、寬帶增透膜、偏振反光膜等精密光學膜層制備?。 （銷售技術楊經理：18103045976）

2. ?技術參數與工作模式? ?鍍膜室規格?：1600MM尺寸鍍膜腔體，兼容卷繞式或壓板式噴鍍設計，適配不同基材需求?35。 ?工作模式?： ?蒸發鍍膜?：適用于低溫沉積，減少基材熱損傷?。 ?磁控濺射?：附著力強，可處理高熔點金屬（鈦、鉻、鋁等）及半導體材料?。 ?控制系統?：全自動一鍵開關操作，穩定性高，支持復雜膜系參數設定?。 

3. ?應用領域? ?光學行業?：光學玻璃、鏡片增透/反射膜、濾光片等?。 ?消費電子?：手機玻璃/塑膠視窗鍍膜?7。 ?工業制品?：金屬工藝品、塑料件表面環保電鍍?。 

4. ?設備優勢? ?高精度?：通過多光束干涉控制膜層厚度和折射率，實現定制化光學性能?。 ?低溫工藝?：磁控濺射和蒸發鍍膜技術減少基材變形風險?。 ?擴展性?：支持電子槍鉗鍋、羅茨泵等配件定制，滿足多樣化需求?。

 5. ?附加服務與配置? ?供應方式?：提供二手設備銷售及租賃服務，包含免費工藝培訓及場地支持?。 ?售后保障?：包安裝、保修服務，部分型號可提供出口支持?。 

6. ?典型配置參考? ?真空系統?：搭配機械泵、羅茨泵，確保高真空環境穩定性?。 ?靶材兼容?：鈦靶、鉻靶、鋁靶、ITO靶等，支持納米級膜層沉積?.