一、基礎配置 ?真空室? 尺寸：Ф1550×1800mm，材質為SUS304不銹鋼，具備高耐腐蝕性和密封性?。 工件架：直徑Ф1400mm，轉速10-30rpm可調，支持多類型基板均勻鍍膜?。 ?射頻源與蒸發源? 搭載23寸射頻離子源（RF離子源），通過高密度離子電流提升膜層致密性和耐摩擦性（通過4萬次摩擦試驗）?。 蒸發系統采用雙電子槍（16F型號），搭配12穴環形坩堝及熱阻蒸裝置，支持復雜多層鍍膜（100層以上）?。 ?排氣系統? 組合式設計：機械泵（275/SV630型號）+ 羅茨泵（愛德華品牌）+ 擴散泵及低溫冷凝器（POLYCOLD），極限真空度≤7.0×10??Pa，抽氣至工作真空僅需15分鐘?。 ?膜厚監控? 集成HOM2R-VIS350A光學膜厚監控儀，波長范圍350-1100nm，搭配6點式水晶傳感器和晶控系統，實現納米級精度控制?。 

二、技術參數 ?真空性能?：極限真空≤7.0×10??Pa，抽氣時間≤15分鐘?。 ?鍍膜層數?：支持100層以上復雜鍍膜工藝?。 ?電子槍配置?：雙電子槍（日本電子16F型號），支持多點及環型坩堝?。 ?傳感器系統?：XTC/3+6點式水晶傳感器，實時監控鍍膜過程?。 

三、應用領域 ?光學薄膜?：包括AR膜（抗反射膜）、AF膜（防指紋膜）及AS膜（防污膜）?。 ?工業應用?：適用于光學器件、觸摸屏、鏡頭、顯示面板等領域的鍍膜需求?。

 四、售后服務 提供安裝調試、工藝培訓及設備維護支持?。 設備支持租賃或購買，可根據需求靈活選擇?。 

五、設備優勢 ?高精度?：結合光學監控與晶控系統，確保膜層均勻性?。 ?高效穩定?：雙電子槍與射頻離子源組合，提升鍍膜效率與膜層耐久性?。 ?模塊化設計?：真空室、排氣系統等組件可根據工藝需求擴展或調整?