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賣家服務時間

9:00--17:00

擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業,對所加工的硅
片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統、 控制系統、超凈化操作系統等組成。

用工控機微控方式或者程控方式操作。


擴散爐技術指標:
可處理硅片尺寸:2—12英寸
外型形式:臥式1—4管結構
工作溫度:200℃—1300℃
恒溫區長度及精度:200mm—1100mm≤±0.5℃
單點溫度穩定性、重復性:≤±1℃/24h
溫度斜變:可控升溫速率15℃/min
可控降溫速率:5℃/min
送片裝置:手動推拉
氣路系統:1—5路工藝氣體/管
氣體控制:手動浮子流量計
控制方式:程控


詳情:

規格參數

  • 行業分類:

    機械及行業設備/電子產品制造設備/其他電子產品制造設備

  • 產品類別:

  • 品  牌:

    福潤德

  • 規格型號:

  • 庫  存:

  • 生 產 商:

    青島福潤德微電子設備有限公司

  • 產  地:

    中國山東省青島市

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