北京維意真空技術應用有限責任公司
賣家服務時間
9:00--17:00
小型臺式磁控濺射鍍膜機 設備用途： 用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。 設備組成 系統主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（3個靶）、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。 技術指標： 1. 極限真空度6.7×10-5Pa； 分子泵滿速1小時后真空度達到4×10-4Pa； 2. 超高真空磁控靶：有效尺寸3英寸，數量：3支，永磁靶（自帶側開擋板），水冷； 3. 靶基距120-200mm可調，用光軸加直線軸承導向，可手動連續調節，有刻度指示；三靶共濺射，靶可擺角度，角度為0～45℃； 4. 樣品加熱：采用碘鎢燈加熱方式對樣品進行加熱，樣品可加熱400℃； 5. 磁控濺射樣品有效尺寸：Φ60mm，一次只鍍1片；鍍膜時樣品架實現自轉，自轉轉速為0～50轉/分；樣品加負偏壓0-200V可調； 6. 氣體控制：氣體流量通過兩路質量流量控制器控制，流量范圍為：0～50 sccm； 7. 系統帶有手動控制功能，主要實現樣品的加熱控制；樣品的旋轉控制；磁控靶檔板的控制；真空度的采集。
規格參數
行業分類：
機械及行業設備/其他行業專用設備/鍍膜機
產品類別：
鍍膜機
品 牌：
WAYES-VAC
規格型號：
MS-246
庫 存：
1
生 產 商：
北京維意真空技術應用有限責任公司
產 地：
中國北京市大興區
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