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小型臺式磁控濺射鍍膜機 設備用途: 用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。 設備組成 系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶(3個靶)、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。 技術指標: 1. 極限真空度6.7×10-5Pa; 分子泵滿速1小時后真空度達到4×10-4Pa; 2. 超高真空磁控靶:有效尺寸3英寸,數(shù)量:3支,永磁靶(自帶側(cè)開擋板),水冷; 3. 靶基距120-200mm可調(diào),用光軸加直線軸承導向,可手動連續(xù)調(diào)節(jié),有刻度指示;三靶共濺射,靶可擺角度,角度為0~45℃; 4. 樣品加熱:采用碘鎢燈加熱方式對樣品進行加熱,樣品可加熱400℃; 5. 磁控濺射樣品有效尺寸:Φ60mm,一次只鍍1片;鍍膜時樣品架實現(xiàn)自轉(zhuǎn),自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為0~50轉(zhuǎn)/分;樣品加負偏壓0-200V可調(diào); 6. 氣體控制:氣體流量通過兩路質(zhì)量流量控制器控制,流量范圍為:0~50 sccm; 7. 系統(tǒng)帶有手動控制功能,主要實現(xiàn)樣品的加熱控制;樣品的旋轉(zhuǎn)控制;磁控靶檔板的控制;真空度的采集。


詳情:

規(guī)格參數(shù)

  • 行業(yè)分類:

    機械及行業(yè)設備/其他行業(yè)專用設備/鍍膜機

  • 產(chǎn)品類別:

    鍍膜機

  • 品  牌:

    WAYES-VAC

  • 規(guī)格型號:

    MS-246

  • 庫  存:

    1

  • 生 產(chǎn) 商:

    北京維意真空技術應用有限責任公司

  • 產(chǎn)  地:

    中國北京市大興區(qū)

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