上海微電子裝備(集團)股份有限公司
SSX600系列步進掃描投影光刻機采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應調焦調平技術，以及高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術，可滿足IC前道制造90nm、110nm、280nm關鍵層和非關鍵層的光刻工藝需求。該設備可用于8寸線或12寸線的大規模工業生產。
規格參數
行業分類：
電子元器件/半導體材料
產品類別：
品 牌：
規格型號：
庫 存：
生 產 商：
產 地：
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